Maske til problematisk ansigtshud, Holy Land A-Nox Plus Retinol Mask

BESKRIVELSE:
Denne behandlingsmaske er udviklet til pleje af problemhud i ansigtet. Den heler hurtigt og effektivt beskadigede områder efter rens, fugter i dybden, fjerner overskydende talg, regulerer hudens syre-base-balance i de øverste hudlag, mindsker porer, genopretter hudtonen og har en udtørrende effekt på urenheder.

BRUGSANVISNING:
Påfør punktvis om natten på betændte områder og infiltrationer. Må ikke skylles af. 2–3 gange om ugen påføres masken i et tyndt lag på alle problemområder i 20 minutter, hvorefter den skylles grundigt af med en svamp og vand. Afslut med en fugtgivende lotion.

INGREDIENSER:
Isopropyl Alcohol, Bentonit, Water (Aqua), Propylene Glycol, Kaolin, Glycerin, Zinc Oxide, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Salicylic Acid, Retinol, Allantoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydroxypropyl Methylcellulose, Quartz, Sodium Lauryl Sulfate, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol